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08-04-09 08:00 为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。
系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有 ...
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09-04-04 08:00 产品应用-制药工艺用水
一、制药用水标准及选用原则
(一) 纯水的概念中国药典规定，注射用水须以纯化水为原水，然而人常说的纯水是脱盐水、纯水及高纯水的泛称。
1. 脱盐水 水中易于去除的强电解质去除到一定程度，剩余盐含量约在1～5mg/l,25℃时，电阻率为1.0～10MΩ.CM.
2.纯水 又称去离子水，将水中绝大部分强电解质及难以去除的硅酸及二氧化碳等弱电解质去除到一定程度，含盐量在1mg/l以下，25℃时，电阻率为1.0～10MΩ.CM.
3.高纯水 又称超纯水，水中电解质几乎全部去除，水中不溶解的胶体物质、微生 ...
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08-04-06 08:00 本公司生产的高纯水设备，由反渗透纯水装置及混床组成，与传统的高纯水制水设备相比，它更具有使用维护方便、水质稳定、树脂再生周期长等特点，水质可达到5-15兆。现广泛应用于化工、电子、电镀等行业。
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09-03-30 08:00 型号 DRS 品牌 得润
操作压力 0.2--0.3（Mpa） 水电阻率 15ΩM.cm
出水量 10T/H 电压 380（V）
功率 15K（w） 电导率 0.055
脱盐率 99.8（%） 单机出力 50（/h）
外形尺寸 1200*10*1500（cm）
本装置是为满足出水要求在电阻率为≥15MΩ的客户而设计,整套装置的工艺流程为:原水(自来水)通过增压泵把水送入介质过滤器(包含石英砂过滤器、活性碳过滤器）过滤后，通过保安过滤器深度过滤后，由高压泵送入反渗透系统，进行深度脱盐后送入中间水箱。（在水进入高压泵前，对水进行加药处理），此时出水已能达到国家饮用水标准脱盐率在 ...
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08-03-17 08:00 采用进口RO反渗透技术和后处理EDI电除离子装置，用于更深度的除去水中的有机物质和无机性阳，阴离子。制备特别高纯净的超纯水、无需酸碱再生、其出水水质电阻率可达15-18MΩ以上。 工艺流程为：原水-预处理-RO反渗透-EDI电除盐-抛光树脂床-后处理-超纯水
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08-03-05 08:00 电子工业高纯水设备
电子工业中，生产单晶硅半导体材料、二极管、三极管、集成电路、光盘、硬盘、显象管时，都需要达到电子级标准的工艺用水，在我国,电子级水共分五个级别，部分指标如下：
指标
级别
EW-Ⅰ
EW-Ⅱ
EW-Ⅲ
EW-Ⅳ
EW-Ⅴ
电阻率
MΩ.cm（25℃）
18
90%时间
最小17
15
90%时间
最小12
10
90%时间
最小8
≥2
≥0.5
大于1μm微粒数，最大值，个/ml
1
5
10
100
500
大于0.5μm微粒数，最大值，个/ml
100
300
500
10
20
细菌个数，最大值，个/ ml
1
5
10
50
100
...
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08-03-28 08:00 工业高纯水制取设备
工业高纯水设备（超纯水设备）
离子交换混床为深度脱盐设备，用于制造高纯水，产水电阻率为10-18MΩ·CM(25C),二氧化硅含量（SIO2）≤0.02mg/L, 混床分为单、双床、抛光床、双床可一用一备，（不影响生产用水的连续性）；可串联使用，以提高产水水质， 有效利用树脂的交换容量；当生产用水量大时，可并联使用，运行相当灵活、方便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。环保型再生系统， 高浓度酸碱通过射流器与进水按一定的比例配制成再生溶液进行再生，不需要酸碱泵及酸碱配制储罐，防止酸雾对环境的污 ...
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